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FEP胶带在半导体的光刻工艺中的掩膜保护
发布时间 : 2025-12-05 浏览次数 : 次FEP胶带在半导体的光刻工艺中的掩膜保护
- 应用场景：在光刻过程中，FEP胶带可作为临时掩膜或覆盖层，保护特定区域免受曝光或刻蚀。
优势：
- 高透明度：对紫外光（UV）和深紫外光（DUV）的透过率较高，适合某些光刻需求。
- 低污染：无析出物，避免影响光刻胶的附着性和图案精度。
服务热线: 15365605821
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FEP胶带在半导体的光刻工艺中的掩膜保护
- 应用场景：在光刻过程中，FEP胶带可作为临时掩膜或覆盖层，保护特定区域免受曝光或刻蚀。
优势：
- 高透明度：对紫外光（UV）和深紫外光（DUV）的透过率较高，适合某些光刻需求。
- 低污染：无析出物，避免影响光刻胶的附着性和图案精度。
